真空蒸发镀膜原理

真空蒸发涂层的示意图如图10-1所示。将该膜置于真空室中，并通过蒸发源加热以蒸发。蒸气的原子或分子从蒸发源的表面逸出。由于空间气体分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸，因此很少与其他分子相关联。或原子碰撞，可直接到达要电镀的基材表面，并在凝结后形成膜。蒸发过程中的真空条件应使从真空室中的薄膜蒸发的原子（分子）的平均自由程大于蒸发源与基板之间的距离。